氧化鈣立磨，主要用于氧化鈣微粉的生產(chǎn)。氧化鈣微粉可以應(yīng)用在建筑涂料填充料，環(huán)保型乳膠漆, 防水膩子，污水處理等領(lǐng)域。桂林鴻程HLMX1100超細立式磨粉機，打破超細粉加工難以規(guī)模化生產(chǎn)的瓶頸，可替代進口超細立磨，具有研磨選粉效率高、維護方便、運營成本低、綜合投資成本低、產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定、高效環(huán)保、自動化程度高等顯著優(yōu)勢。
氧化鈣立磨，主要用于氧化鈣微粉的生產(chǎn)。桂林鴻程HLMX1100超細立式磨粉機，打破超細粉加工難以規(guī)模化生產(chǎn)的瓶頸，具有研磨選粉效率高、維護方便、運營成本低、綜合投資成本低、產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定、高效環(huán)保、自動化程度高等顯著優(yōu)勢。
HLMX立磨系統(tǒng)由主機、給料機、分級機、鼓風機、管道裝置、儲料斗、電控系統(tǒng)、收集系統(tǒng)等組成。
HLMX立式磨粉機采用標準化模塊式設(shè)計制造加壓裝置，隨著立磨產(chǎn)能的增加，相應(yīng)的增加立式磨粉機磨輥數(shù)，可采用2輥、3輥或者4個磨輥，最多可采用6個磨輥進行排列組合，以最少的標準模塊部件。形成多種能力的系列產(chǎn)品，滿足不同產(chǎn)品細度和產(chǎn)量的要求。
電機驅(qū)動減速機帶動磨盤轉(zhuǎn)動，物料在離心力的作用下向磨盤四周移動進入磨輥與磨盤之間，在磨輥壓力作用下，物料受到擠壓、研磨和剪切力而被粉碎，磨碎的粉末被鼓風機的氣流吹到主機上方的分級機進行篩分，粒度過粗者仍落入主機內(nèi)重磨，細度合乎規(guī)格者隨風流入脈沖收塵器，收集后經(jīng)出粉管排出即為成品，凈化后的氣流經(jīng)脈沖收集器上的管道流入鼓風機后排入大氣。
氧化鈣制粉項目業(yè)主擁有豐富的石灰石資源，且品質(zhì)優(yōu)良，是非常好的氧化鈣生產(chǎn)原料。業(yè)主的氧化鈣微粉項目主要用于可作建筑涂料填充料，環(huán)保型乳膠漆, 防水膩子，污水處理等領(lǐng)域。該客戶廠區(qū)配置HLMX1100高細立式磨粉機一臺，HLMX立磨用于生產(chǎn)325-1500目氧化鈣粉。1250目D97，產(chǎn)量可達6噸每小時。
本設(shè)備型號和臺數(shù): 1臺HLMX1100高細立式磨粉機
加工原料: 氧化鈣
成品細度: 325-1500目
設(shè)備產(chǎn)量: 325目D97產(chǎn)量15-18T/h；600目D97產(chǎn)量10-12T/h ；800目D97產(chǎn)量8-10T/h
HLMX氧化鈣微粉超細立式磨規(guī)格、技術(shù)參數(shù)表
型號 Model | 磨盤直徑（mm） Ring Inner Moisture | 入磨物料水分（%） Material Moisture | 成品細度（μm） Fineness | 產(chǎn)量（T/h） Capacity |
| HLMX1000 | 1000 | ≤5% | 10-45μm最細可達5μm（配二次分級系統(tǒng)） 0.045mm-0.01mm，0.005mm（with secondary classifier） | 3-12 |
| HLMX1100 | 1100 | ≤5% | 4-14 | |
| HLMX1300 | 1300 | ≤5% | 5-16 | |
| HLMX1500 | 1500 | ≤5% | 7-18 | |
| HLMX1700 | 1700 | ≤5% | 8-20 | |
| HLMX1900 | 1900 | ≤5% | 10-25 | |
| HLMX2200 | 2200 | ≤5% | 15-35 | |
| HLMX2400 | 2400 | ≤5% | 20-40 |
注：由于各地物料不同，產(chǎn)量不同，以上數(shù)據(jù)僅供參考。
擺式磨粉機行業(yè)的技術(shù)革命
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